| 8486102000 |
制造单晶柱或晶圆用的研磨设备 |
13% |
台 / 千克 |
详情 |
| 8486103000 |
制造单晶柱或晶圆用的切割设备 |
13% |
台 / 千克 |
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| 8486104000 |
制造单晶柱或晶圆用的化学机械抛光设备(CMP) |
13% |
台 / 千克 |
详情 |
| 8486109000 |
其他制造单晶柱或晶圆用的机器及装置 |
13% |
台 / 千克 |
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| 8486201000 |
氧化、扩散、退火及其他热处理设备 |
13% |
台 / 千克 |
详情 |
| 8486202100 |
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 |
13% |
台 / 千克 |
详情 |
| 8486202200 |
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 |
13% |
台 / 千克 |
详情 |
| 8486202900 |
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 |
13% |
台 / 千克 |
详情 |
| 8486203100 |
制造半导体器件或集成电路用分步重复光刻机 |
13% |
台 / 千克 |
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| 8486203110 |
制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（后道用） |
13% |
台 / 千克 |
详情 |
| 8486203120 |
制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（前道用 I 线光刻机） |
13% |
台 / 千克 |
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| 8486203130 |
制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（前道用氟化氪（ KrF ）光刻机） |
13% |
台 / 千克 |
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| 8486203190 |
其他制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机 |
13% |
台 / 千克 |
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| 8486203900 |
其他将电路图投影或绘制到感光半导体材料上的装置 |
13% |
台 / 千克 |
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| 8486203910 |
制造半导体器件或集成电路用的 I 线光刻机（步进式除外） |
13% |
台 / 千克 |
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