| 商品编码 | 8414100060 |
| 商品名称 | 专门或主要用于半导体或平板显示屏制造的真空泵 |
| 申报要素 | 1:品名;2:品牌类型;3:出口享惠情况;4:用途（如半导体晶圆或平板显示屏制造用等）;5:品牌（中文或外文名称）;6:型号;7:抽气速率（m3/s或L/s）;8:抽气量（Pam3/s或Pal/s）;9:GTIN;10:CAS;11:其他; |
| 法定单位 | 台 |
| 海关监管条件 | |
检验检疫 | |
| 出口从价关税率 | – |
| 出口退税率 | 13% |
| 商品描述 | |
| 英文名称 | The vaccum pumps,specifically or primarily used for Semiconductor wafer fabrication or flat panel screen manufacturing |
| 个人行邮(税号) |
申报实例汇总:
| 商品名称 | 商品规格 |
| 高真空低温泵 | 无品牌8185349G002 |
| 钛升华泵 | 4|3|半导体晶圆制造用。由控制器通电给升华器，使钛加热到足够高的温度直接升华，钛沉积在用水或液氮冷却的表面上，形成新鲜的镀膜层。钛在升华和沉积的过程中与活性气体结合成稳定的化合物，结果将空间的气体分子抽除|ULVAC牌|PGT-3F型|50HZ|||每台配一根电源线 |
| 真空泵（半导体专用） | 取得真空源;Brooks;8185359G001;3300L/S |
| 真空泵（半导体专用） | 取得真空源;Brooks;8185361G001;3600L/S |
| 真空泵 | 型号：A1204H |
| 真空泵 | 品牌类型半导体制造用;Edwards;iH1000;950M3/H |
| 真空泵 | 品牌类型半导体制造用;Edwards;GX600N;600M3/H |
| 真空泵 | 见备注;EDWARDS;iXL250Q/2600HV;31667升/分钟 |
| 真空泵 | 境外品牌(其它);备注;备注;EDWARDS;备注;56667升/分钟 |
| 真空泵 | 境外品牌(其它);无;备注;EDWARDS;备注;56667升/分钟 |
| 真空泵 | 型号:A1204H |
| 涡轮泵 | 4|0|用途:建立真空环境|精工精选牌|型号:V300HT|性能:空气排除|||材质:不锈钢 |
| 涡轮泵 | 4|0|用途:建立真空环境|精工精选牌|型号:STP-300C|性能:空气排除|||材质:不锈钢 |
| 涡轮分子泵（真空泵/半导体专用） | 半导体晶圆用HiPace1200C;1300L/min |
| 涡轮分子泵（真空泵/半导体专用） | 半导体晶圆制程用;Edwards;STP-1003C;800L/min |
| 干泵（半导体专用） | 半导体晶圆制造用;Edwards;IXH3050H;50000L/min |
| 干泵（半导体专用） | 取得真空源;Edwards;EPX180LTWIN;3000L/min |
| 干泵（半导体专用） | 取得真空源;Edwards;iXH1210;20000L/min |
| 干泵(半导体专用) | 半导体专用;Edwards牌;iXH3045H;50000L/min |
| 干泵(半导体专用) | 半导体专用;Edwards牌;iXH1210M;20000L/min |
| 干式真空泵浦（半导体专用） | 取得真空源用;无品牌;MU12E18X-004G;20000L/min |
| 干式真空泵浦（半导体专用） | 取得真空源用;无品牌;MU1203P-007G;20000L/min |
| 干式真空泵浦（半导体专用） | 取得真空源用;无品牌;SDE1203X-C059G;20000L/min |
| 干式真空泵浦（半导体专用） | 无品牌半导体制造用;无品牌1660L/min |
| 干式真空泵浦（半导体专用） | 无品牌半导体制造用;无品牌35000L/min |
| 干式真空泵(半导体专用) | 半导体晶圆制程用;EBARA牌;ESA70WN;7000L/min |
| 常压垂直炉管用真空泵 | 用于使反应腔的环境真空;EDWARDS牌;IH1000 |
| 分子泵 | 境外品牌(其它);无;备注;EDWARDS;备注;168000升/分钟 |
| 分子泵 | 备注;备注;备注;EDWARDS;备注;168000升/分钟 |
| 分子泵 | 见备注;EDWARDS;STP-ixA3306BV;168000升/分钟 |