| 商品编码 | 8486104000 |
| 商品名称 | 制造单晶柱或晶圆用的化学机械抛光设备(CMP) |
| 申报要素 | 1:品名;2:品牌类型;3:出口享惠情况;4:用途;5:功能;6:品牌（中文或外文名称）;7:型号;8:GTIN;9:CAS;10:其他; |
| 法定单位 | 台 |
| 海关监管条件 | |
检验检疫 | |
| 出口从价关税率 | – |
| 出口退税率 | 13% |
| 商品描述 | 制造单晶柱或晶圆用的化学机械抛光设备(CMP) |
| 英文名称 | Chemical mechanical polishers(CMP) for the manufacture of boules or wafers |
| 个人行邮(税号) |
申报实例汇总:
| 商品名称 | 商品规格 |
| 铜盘抛光机 | 用于制造LED衬底;铜盘抛光;SPEEDFAM;36DPAW |
| 硅片制样系统 | WSPS3 WITHOUT MINI-ENVIROMENT |
| 晶圆抛光机 | POLISHING |
| 抛光机 | (旧)(48BSW385901) |
| 抛光机 | (旧)1996年(制作晶圆专用) |
| 抛光机 | 抛光晶片用,使晶片表面光滑圆整|抛光晶 |
| 单面抛光机/SILTEK/CMP抛光 | 3800/晶圆片表面抛光/ |
| 单面抛光机 | 用于制造LED衬底;单面抛光;SPEEDFAM;36GPAW |
| 半导体抛光机 | TRIBO CMP MACHINE SERIAL |
| 化学机械研磨机 | 型号:Mirra 3400 Ontrack Clean |
| 化学机械抛光设备/APPLIED/有效 | (SYSREFLEXIONLK) |
| 化学机械抛光研磨机 | 型号:FREX 200 |
| 制造单晶柱或晶圆用的化学机械抛光设备(CMP) | |
| Gnad61 化学机械抛光设备 | 用于抛光晶圆材料的表面|去除晶圆材料的厚度,提高晶圆材 |