| 商品编码 | 8486204100 |
| 商品名称 | 制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 |
| 申报要素 | 1:品名;2:品牌类型;3:出口享惠情况;4:用途;5:功能;6:品牌（中文或外文名称）;7:型号;8:GTIN;9:CAS;10:其他; |
| 法定单位 | 台 |
| 海关监管条件 | |
检验检疫 | |
| 出口从价关税率 | – |
| 出口退税率 | 13% |
| 商品描述 | 制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 |
| 英文名称 | Dry plasma etching for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis |
| 个人行邮(税号) |
申报实例汇总:
| 商品名称 | 商品规格 |
| 金属蚀刻机/LAM牌 | Alliance TCP9608PTX 2ch |
| 金属蚀刻机 | TE-8500S ESC |
| 蚀刻机 | 型号:Centura 5200 |
| 等离子干法刻蚀机 | 在晶圆加工工艺中 对晶圆表面径向处理 增加不同介质层之 |
| 等离子体干法刻蚀机 | 2300型 LAM牌 |
| 等离子体刻蚀机 | M42200-2/UM |
| 离子刻蚀微调机 | SFE-6430C |
| 电浆处理设备 | IPC-1000,LINCO牌应用真空电浆技术利用气体离子化 |
| 深干法硅微结构离子刻蚀机 | SYSTEM100ICP180 |
| 氧化物蚀刻机 | UNITY Ver 2 85DI |
| 感应耦合等离子刻蚀机(不含外 | PlasmaPro System100ICP180 |
| 干法蚀刻设备 | 型号:FLEX 45 DD |
| 干法蚀刻机 | NE-550 |
| 干式蚀刻机 | system100-ICP380 |
| 干式蚀刻机 | (制作半导体专用) |
| 干式光阻去除机/Mattson牌 | ASPEN-II ICP(Used tool) |
| 多晶硅蚀刻机/AMATC牌/用于晶圆生产蚀刻工艺 | Centura 5200 Poly 8 inch |
| 多晶硅蚀刻机 | TCP-9408SE/旧设备 |
| 刻蚀机 | (旧)1994年(制作半导体专用) |
| IC刻蚀机 | 型号P5000,旧设备 |